第一台商用光刻机问世
1980年，第一台商用光刻机由美国公司GCA（General Corporation of America）推出，标志着光刻技术在半导体制造中的应用开始普及。
1980年
1984年
光刻机技术的突破
1984年，荷兰ASML公司成立，专注于光刻机的研发。该公司随后推出了多款高性能光刻机，推动了半导体产业的发展。
1990年
深紫外光（DUV）光刻机的出现
1990年，深紫外光（DUV）光刻机开始广泛应用，这一技术的引入使得芯片制造的分辨率大幅提升，能够生产更小的电路图案。
1997年
EUV光刻机的研发启动
1997年，极紫外光（EUV）光刻机的研发工作正式启动，旨在进一步提升光刻技术的分辨率，以满足未来更小芯片的需求。
2000年
ASML收购光刻机制造商
2000年，ASML收购了光刻机制造商、技术领先的公司，进一步巩固了其在全球光刻机市场的领导地位。
2006年
第一台商业化EUV光刻机问世
2006年，ASML推出了第一台商业化的EUV光刻机，标志着光刻技术进入了一个新的时代，能够实现更高的分辨率和更小的特征尺寸。
2011年
EUV光刻技术的持续改进
2011年，EUV光刻技术经过多次改进，能够在更高的生产效率下实现更小的芯片制造，逐渐被大型半导体厂商接受。
2015年
光刻机在7nm工艺中的应用
2015年，光刻机技术成功应用于7nm工艺节点的芯片生产，推动了智能手机和其他电子设备的性能提升。
2018年
全球首台量产EUV光刻机交付
2018年，ASML向台积电交付了全球首台量产的EUV光刻机，标志着EUV光刻技术进入大规模生产阶段。
2020年
光刻机技术的进一步发展
2020年，随着技术的不断进步，光刻机的分辨率和生产效率再度提升，推动了5nm及以下工艺的实现。
2021年
光刻机市场竞争加剧
2021年，随着市场对高性能芯片需求的增加，光刻机市场竞争加剧，各大厂商纷纷加大研发投入，争夺市场份额。
2022年
EUV光刻机技术的成熟
2022年，EUV光刻机技术逐渐成熟，成为高端芯片制造的主流选择，推动了半导体产业的快速发展。
2023年
光刻机在人工智能芯片中的应用
2023年，光刻机技术被广泛应用于人工智能芯片的制造，满足了日益增长的计算需求，推动了AI技术的发展。
2024年
新一代光刻机的研发
2024年，全球各大半导体公司加速研发新一代光刻机，目标是实现更小的工艺节点，同时提高生产效率和降低成本。
